鍍膜儀常見的幾個真空鍍膜方式如下：

　　1.磁控濺射鍍膜

　　磁控濺射是一種常用的真空鍍膜技術，它利用磁場將靶材料離子化并沉積在基底表面上。這種技術可用于制備金屬、合金、氧化物、硝化物等多種材料的薄膜。該技術具有高沉積速率、較好的均勻性和附著力等優點。

　　2.熱蒸發鍍膜

　　熱蒸發是一種常用的真空鍍膜方法，它通過加熱固態材料使之升華并沉積在基底表面。這種方法適用于制備高純度金屬、合金、無機化合物、有機材料等各種薄膜。該技術具有沉積速率快、成本低廉等優點，但對材料的熔點、壓力等參數要求較高。

　　3.電弧離子鍍膜

　　電弧離子鍍膜是一種真空鍍膜技術，它利用高能電弧放電將靶材料離子化并沉積在基底表面上。該技術適合于制備金屬、合金等各種金屬材料的薄膜。這種方法具有沉積速率快、附著力好等優點，但需要較高的操作技能和設備成本。

　　4.化學氣相沉積（CVD）鍍膜

　　化學氣相沉積是一種真空鍍膜技術，它利用氣態前體分解反應在基底表面上形成薄膜。該技術適用于制備無機、有機材料以及復合材料等各種類型的薄膜。該方法具有沉積速率較快、成膜溫度低、均勻性好等優點，但對前體氣體質量、反應條件等參數要求較高。

　　綜上，不同的真空鍍膜方式適用于不同類型的材料和應用需求。在選擇鍍膜方式時，還需考慮諸如成本、工藝難易度、沉積速率、膜質量等因素。