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靶材是制備薄膜的主要材料之一，主要用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對材料純度和穩定性要求高。濺射靶材的原理如下：濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體即為濺射靶材。靶材的發展趨勢是高濺射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高純金屬。一般按照不同應用領域可分為半導體靶材、磁記錄靶材、光記錄靶材、顯...

徠卡超薄切片機可進行半薄和超薄切片，為光學顯微鏡，透射電子顯微鏡，掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡提供的切片。符合人體工程學的外觀設計，內部精密機械設計，直觀的觸摸屏控制面板設計，在LeicaEMUC6三個LED照光點(頂燈、背光燈及樣品透過照明燈)基礎上，在原頂燈兩側新增兩個LED點照光，通過聚焦光束照明，方便觀察，清潔刀鋒或冷凍超薄切片。切片機可獨立于操作人員自行修塊，這得益于創新的全馬達驅動刀臺，以及自動修塊功能，實現自動修塊并自動停止。符合人體工學設計，不論左手習慣還是右...

液體導電膠是具有一定導電性能的膠黏劑，應用于液晶顯示屏（LCD）、發光二極管（LED）、集成電路(IC)芯片、印刷線路板組件(PCBA)、點陣塊、陶瓷電容、薄膜開關、智能卡、射頻識別等電子元件和組件的封裝和粘接，有逐步取代傳統的錫焊焊接的趨勢。導電高分子材料的制備較為復雜、離實際應用還有較大的距離，因此廣泛使用的均為填充型導電膠。液體導電膠的性能與哪些因素相關：1.導電粒子類型在導電粒子表面和形狀相近的條件下，導電粒子本身的電阻率越小，導電膠的性能越好。2.導電粒子用量隨導電...

液體導電膠的導電機理被認為主要是導電粒子之間的相互接觸，形成電的通路，使導電膠具有導電性。膠層中導電粒子間的穩定接觸是由于導電膠的固化或干燥形成的。含有溶劑的導電膠，在固化或者干燥前，導電粒子在膠黏劑中是分離存在的，相互間沒有連續接觸，因而處于絕緣狀態。導電膠固化或者干燥后，由于溶劑的揮發和膠黏劑固化而引起膠黏劑體積收縮，使得導電粒子相互間呈穩定的連續接觸，因而呈現導電性。液體導電膠的應用實例：1.液體導電膠用于微電子裝配，包括細導線與印刷線路、電鍍底板、陶瓷被粘物的金屬層、...

液體導電膠主要由樹脂基體、導電粒子和分散添加劑、助劑等組成。目前市場上使用的導電膠大都是填料型。導電膠要求導電粒子本身要有良好的導電性能粒徑要在合適的范圍內，能夠添加到導電膠基體中形成導電通路。導電填料可以是金、銀、銅、鋁、鋅、鐵、鎳的粉末和石墨及一些導電化合物。對于導電膠的選擇依據我們主要看這幾點：1.屏蔽效能各種需要進行導電膠點膠加工的產品的不同的性能，就需要考慮到導電膠的技術參數。2.導電膠固化后的硬度構件在裝配后，導電膠在高度方向上需要有30%-50%的壓縮，才能達到...

真空鍍膜儀是一款多功能型真空鍍膜系統設備，用于制備超薄、細顆粒的導電金屬膜和碳膜，以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。全自動臺式鍍膜儀包含內置式無油真空系統石英膜厚監控系統和馬達驅動樣品臺。真空鍍膜儀的濺鍍一般是指磁控濺鍍，歸于高速低溫濺鍍法。該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布，即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，因為輝光放電發生的電子激起慵懶氣體，發生等離子體，等離...

離子切割儀可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實驗，也適合于特定制樣需求實驗室。離子切割配合不同的工作氣體可以切割各種氧氣切割難以切割的金屬，尤其是對于有色金屬（不銹鋼、鋁、銅、鈦、鎳）切割效果更佳。其主要優點在于切割厚度不大的金屬的時候，離子切割速度快，尤其在切割普通碳素鋼薄板時，速度可達氧切割法的5-6倍、切割面光潔、熱變形小、較少的熱影響區。離子切割的主要切割規范簡述如下：1.空載電壓和弧柱電壓離子切割電源必須具有足夠高的空載電壓，才能容易引弧和使離子弧穩定燃燒。空...